Technologie de faisceaux d’ions et Plasma

Technologie de faisceaux d'ions et Plasma

 

Une des spécialités de IOT:

  • Des solutions personnalisées pour des équipements à plasma ou faisceaux d’ions, pour des applications dans les domaines des revêtements de surfaces et de couches très fines.

Et comme particularité:

  • Des équipements à plasma PIII (Plasma-Immersions-Ionenimplantation), également en combinaison avec des sources de pulvérisation pour un revêtement simultané (PIIID).

Caractéristique de l'entreprise:

Parallèlement à la construction d’installations proprement dite en matière de technique plasma et de faisceau d’ions, nous accompagnons nos clients depuis les essais préliminaires et les tests dans les propres installations d’IOT jusqu’au développement et à l’optimisation du processus. Les clients d’IOT profitent ici des possibilités d’essais préliminaires étendus et d’un développement de processus sur mesure dans l’une des installations à plasma et à faisceau d’ions disponibles dans le laboratoire de développement propre à IOT à Leipzig.

 

  • Installations avec un volume de 500 à 1500 l
  • Turbopompes en combinaison avec des pompes à palettes ou des pompes Roots.
  • Sources de plasma sans filaments (ECR ou HF)
  • Contrôle du système personnalisé (Manuel; API avec LabVIEW et interface PC via clavier et souris, enregistrement des données, commande de la composition/recette programmable; SIEMENS S7 avec écran tactile)

IOT – Technologie de faisceaux d’ions et Plasma

 

 

Depuis plus de dix ans IOT travaille au développpement de systèmes customisés à plasma et à faisceaux d’ions pour les techniques de traitement de surfaces et de couches très fines. Nous avons en particulier développé les systèmes PIII et PIIID, pour l’immersion de plasma et l’implantation d’ions (Plasma-Immersions-IonenImplantation).

IOT met au point des projets clé en main (conception, fourniture, construction, installation), et peut également fournir des modules individuels tels que les sources de plasma et faisceaux d’ions.

IOT exploite un système PIIID ainsi qu’un système à vide avec diverses sources de faisceaux d’ions dans son propre laboratoire de développement à Leipzig. Les clients intéressés ont ainsi de vastes possibilités d’effectuer leurs essais et expérimentations en collaboration avec IOT. Les sources de faisceaux d’ions peuvent également être louées par le client afin d’effectuer ces tests chez lui.

 

Principe:

 

Le volume de la cuve en acier inoxydable est d’abord évacué, puis un gaz de traitement spécial est introduit, mais à une pression fortement réduite (environ 10.000 fois inférieure à la pression atmosphérique normale). L’injection d’énergie au moyen d’une source de plasma permet d’allumer un plasma à basse pression, qui est obtenu par chauffage sélectif des électrons.

 

 

IOT dispose de sources de plasma:

  • avec excitation par micro-ondes en utilisant l’effet de résonance cyclotronique électronique (ECR)
  • avec excitation dans un champ de hautes fréquences à 13,56 MHz (stimulation HF)
  • avec l’excitation d’électrons à partir d’une cathode à incandescence  dans un champ de tension continue (stimulation courant continu DC)

Fiches Techniques:

Les sources de faisceaux d’ions ne sont rien d’autre que des plasmas à basse pression dans une enceinte de décharge séparée et découplée galvaniquement, qui est fermée d’un côté par une optique ionique partiellement transparente. En appliquant des potentiels électriques supplémentaires, les ions sont extraits du plasma de l’enceinte de décharge et accélérés de manière ciblée.

 

 

Services / équipements de location:

IOT propose le développement de procédés, la production de petites séries et la sous-traitance dans nos systèmes de plasma, et également la location de sources de plasma et faisceaux d’ions:

  • Système PIIID, type ISA (volume 500 l, plusieurs canaux de gaz de traitement, capacité de pompage 1000 l/s) – convient pour le traitement plasma et l’implantation d’ions par immersion plasma jusqu’à 22 kV, également en combinaison avec un magnétron de pulvérisation 3″ (mode DC/ mode DC pulsé) comme système PIIID
  • Installation de test par faisceau d’ions (volume 850 l, plusieurs canaux de gaz de traitement, capacité de pompage 2000 l/s) – convient pour le traitement par plasma et le fonctionnement de la source d’ions
  • Source de plasma ECR/F150, Source d’ionsRF/I40, Source de faisceaux d’ions linéaire ECL600

 

Applications :

Traitement par plasma de substrats de petite et large surface, nettoyage par plasma, activation par plasma, implantation d’ions par immersion dans le plasma (PIII), dépôt d’ions par immersion dans le plasma (PIIID), gravure par faisceau d’ions (IBE, IBF), gravure par faisceau d’ions réactifs (RIBE, CAIBE), pulvérisation par faisceau d’ions.

 

 

 

Prestations de service:

  • Construction et montage des équipements
  • Location des équipements
  • Développement et optimisation personnalisés en fonction des souhaits du client
  • Production de petites séries
  • Pour les grosses charges/commandes, sous-traitance, travail en équipes continu, bonne productivité
Contactez nous!

IOT – Technologie de faisceaux d’ions et Plasma

 

 

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